60kHz Sistem Lapisan Semprot Ultrasonik dengan Suhu Tinggi Vortex

60kHz Sistem Lapisan Semprot Ultrasonik dengan Suhu Tinggi Vortex

Deskripsi

Sistem lapisan semprotan ultrasonik vortex suhu tinggi 60 kHz kami mengintegrasikan nozel atomisasi ultrasonik vortex 60 kHz dengan struktur pendingin bawaan.Transduser piezoelektrik menghasilkan getaran frekuensi tinggi untuk mengubah prekursor cair menjadi tetesan mikro halusGas vortex kecepatan rendah membentuk medan semprotan kerucut yang stabil tanpa dampak yang kuat pada substrat.

Rangkaian pendingin nozzle mengisolasi panas dari tahap pemanasan suhu tinggi, yang dapat mencapai hingga 500 ~ 600 °C.Desain ini memungkinkan pengeringan in situ dan dekomposisi termal larutan prekursor langsung di permukaan substrat.

Dibandingkan dengan nozel semprotan ultrasonik fokus konvensional, jenis pusaran menawarkan lebar semprotan efektif yang lebih luas dan seragam pelapis yang unggul.Kabut lembut sangat mengurangi overspray dan meningkatkan pemanfaatan bahan di atas 90%, menghemat bahan prekursor logam mulia yang mahal. kinerja ultrasonik pembersih diri meminimalkan penyumbatan nozzle untuk suspensi, sol dan larutan garam.

Dilengkapi dengan modul pakan cairan presisi, unit kontrol gas independen dan platform gerak servo XYZ, sistem ini mendukung jalur pelapis yang dapat diprogram.Ini dapat menanam film tipis mulai dari puluhan nanometer hingga mikrometer.

Aplikasi khas termasuk lapisan katalis sel bahan bakar & pelapis PEM, sel surya perovskit, TCO dan film oksida logam, MEMS & pelapis fungsional wafer, pembuatan sensor nano-film.

Parameter:

Keuntungan:

1Cakupan seragam dengan semprotan pusaran, lebar semprotan efektif yang lebih luas dalam satu kali melewati
2. Desain yang kompatibel dengan suhu tinggi. Nozzle dengan struktur pendingin untuk mendukung proses dekomposisi termal substrat
3Penggunaan bahan yang tinggi lebih dari 90%, menghemat solusi prekursor yang mahal
4. Ultrasonik pembersih diri, risiko rendah dari penyumbatan nozzle, kompatibel dengan suspensi, sol dan salt prekursor
5Kabut lembut dengan dampak rendah, tidak merusak substrat berpori atau film tipis pra-bentuk
6. Pengendalian ketebalan film yang tepat. Deposisi multi-lapisan untuk menghasilkan film tipis dari skala nanometer hingga mikrometer
7. tekanan rendah vortex membentuk gas, rebound droplet minimal dan overspray rendah

60kHz Sistem Lapisan Semprot Ultrasonik dengan Suhu Tinggi Vortex