| Moq: | 1 buah |
| Harga: | Negotation |
| Kemasan Standar: | Dikemas oleh karton |
| Metode pembayaran: | T/T, serikat barat |
| Kapasitas pasokan: | 1000 unit per bulan |
Peralatan Semprotan Penyebaran Ultrasonik Frekuensi Tinggi 120 kHz
Deskripsi
Parameter:
| Model | FSW-1202-L |
| Nama | 120Khz Dispersing Ultrasonic Nozzle Atomisasi |
| Frekuensi | 120Khz |
| Kisaran ukuran partikel teratomisasi ((μm) | 10-35 |
| Lebar semprot ((mm) | 40 sampai 80 |
| Aliran semprot ((ml/menit) | 0.5-20 |
| Ketinggian semprot ((mm) | 30-80 |
| Viskositas cairan (cps) | < 10 |
| Ukuran partikel (μm) | < 5 |
| Tekanan pengalihan (Mpa) | <0.05 |
| Aplikasi | digunakan secara luas dalam MEMS, wafer semikonduktor, sel bahan bakar PEM, sensor, kateter balon medis dan film tipis optik |
Keuntungan Utama:
✅ Atomisasi frekuensi tinggi 120 kHz menghasilkan tetesan dengan ukuran partikel yang seragam, menyeimbangkan kualitas atomisasi halus dan efisiensi penyemprotan
✅ Semprotan dispersi sudut lebar vortex memungkinkan lapisan konformal pada parit 3D, tangga, permukaan melengkung dan dinding samping
✅ Semprotan lunak kinetik rendah melindungi substrat presisi yang rapuh dan secara efektif menekan aglomerasi bubur
✅ Pengendalian ketebalan film skala nano dengan kinerja pelapis yang stabil dan konsisten
✅ Penggunaan bahan baku yang tinggi mengurangi limbah cair; nozel tahan tersumbat untuk pemeliharaan yang mudah
✅ Arsitektur terintegrasi modular, dapat diperluas dengan tahap pemanasan, penggerak vakum dan platform gerak sepenuhnya otomatis
Peralatan Semprotan Penyebaran Ultrasonik Frekuensi Tinggi 120 kHz
![]()
![]()
| Moq: | 1 buah |
| Harga: | Negotation |
| Kemasan Standar: | Dikemas oleh karton |
| Metode pembayaran: | T/T, serikat barat |
| Kapasitas pasokan: | 1000 unit per bulan |
Peralatan Semprotan Penyebaran Ultrasonik Frekuensi Tinggi 120 kHz
Deskripsi
Parameter:
| Model | FSW-1202-L |
| Nama | 120Khz Dispersing Ultrasonic Nozzle Atomisasi |
| Frekuensi | 120Khz |
| Kisaran ukuran partikel teratomisasi ((μm) | 10-35 |
| Lebar semprot ((mm) | 40 sampai 80 |
| Aliran semprot ((ml/menit) | 0.5-20 |
| Ketinggian semprot ((mm) | 30-80 |
| Viskositas cairan (cps) | < 10 |
| Ukuran partikel (μm) | < 5 |
| Tekanan pengalihan (Mpa) | <0.05 |
| Aplikasi | digunakan secara luas dalam MEMS, wafer semikonduktor, sel bahan bakar PEM, sensor, kateter balon medis dan film tipis optik |
Keuntungan Utama:
✅ Atomisasi frekuensi tinggi 120 kHz menghasilkan tetesan dengan ukuran partikel yang seragam, menyeimbangkan kualitas atomisasi halus dan efisiensi penyemprotan
✅ Semprotan dispersi sudut lebar vortex memungkinkan lapisan konformal pada parit 3D, tangga, permukaan melengkung dan dinding samping
✅ Semprotan lunak kinetik rendah melindungi substrat presisi yang rapuh dan secara efektif menekan aglomerasi bubur
✅ Pengendalian ketebalan film skala nano dengan kinerja pelapis yang stabil dan konsisten
✅ Penggunaan bahan baku yang tinggi mengurangi limbah cair; nozel tahan tersumbat untuk pemeliharaan yang mudah
✅ Arsitektur terintegrasi modular, dapat diperluas dengan tahap pemanasan, penggerak vakum dan platform gerak sepenuhnya otomatis
Peralatan Semprotan Penyebaran Ultrasonik Frekuensi Tinggi 120 kHz
![]()
![]()