| Moq: | 1 Satuan |
| harga: | Negotation |
| Kemasan Standar: | Dikemas oleh kasing kayu |
| Metode pembayaran: | T/T, Western Union |
| Kapasitas pasokan: | 1000 unit per bulan |
Pelapisan Partikel Nano Atomisasi Sel Fotovoltaik Film Tipis Ultrasonik
Deskripsi:
Pelapisan Partikel Nano Atomisasi Sel Fotovoltaik Film Tipis Ultrasonik adalah proses canggih yang menggunakan teknologi ultrasonik untuk melapisi secara akurat lapisan-lapisan kunci sel fotovoltaik film tipis. Ia memiliki keunggulan signifikan dalam meningkatkan efisiensi sel dan efisiensi produksi, dan merupakan dukungan teknis utama untuk mempromosikan proses industrialisasi sel fotovoltaik film tipis.
FUNSONIC Ultrasonic Thin Film Photovoltaic Cell Atomization Nano Particle Coating FS620 terutama digunakan untuk pengujian kualitatif di laboratorium ilmiah, produksi batch kecil dan menengah, dan area berukuran sedang. Seluruh perangkat memiliki struktur yang sederhana dan elegan, menggunakan modul gerakan presisi tiga sumbu XYZ dan dilengkapi dengan sistem kontrol khusus penyemprotan ultrasonik yang dikembangkan secara independen oleh FUNSONIC, mencapai sistem pengeditan lintasan komprehensif dengan fungsi yang cocok dan mencapai penyemprotan yang seragam dan presisi
Parameter:
![]()
Fitur :
1. Pelapisan dengan keseragaman tinggi
Kontrol secara akurat jumlah penyemprotan dan jangkauan pelapisan
Pastikan pelapisan lapisan tipis kunci yang seragam dan padat seperti lapisan penyerapan cahaya dan lapisan elektroda
2. Partikel teratomisasi skala nano
Lapisan diatomisasi menjadi partikel yang sangat halus pada skala nano
Tingkatkan kepadatan dan sifat listrik lapisan, dan kurangi kehilangan material
3. Pelapisan suhu rendah
Mengadopsi teknologi penyemprotan ultrasonik pada suhu rendah
Hindari kerusakan film dan degradasi kinerja baterai yang disebabkan oleh suhu tinggi
4. Efisiensi produksi tinggi
5. Perlindungan lingkungan dan penghematan energi
6. Cocok untuk berbagai teknologi fotovoltaik
Dapat digunakan untuk melapisi sel fotovoltaik film tipis seperti a-Si, CIGS, CdTe, dll
Memenuhi kebutuhan produksi dari berbagai rute teknologi fotovoltaik
![]()
![]()
![]()
Pelapisan Partikel Nano Atomisasi Sel Fotovoltaik Film Tipis Ultrasonik
![]()
![]()
|
|
| Moq: | 1 Satuan |
| harga: | Negotation |
| Kemasan Standar: | Dikemas oleh kasing kayu |
| Metode pembayaran: | T/T, Western Union |
| Kapasitas pasokan: | 1000 unit per bulan |
Pelapisan Partikel Nano Atomisasi Sel Fotovoltaik Film Tipis Ultrasonik
Deskripsi:
Pelapisan Partikel Nano Atomisasi Sel Fotovoltaik Film Tipis Ultrasonik adalah proses canggih yang menggunakan teknologi ultrasonik untuk melapisi secara akurat lapisan-lapisan kunci sel fotovoltaik film tipis. Ia memiliki keunggulan signifikan dalam meningkatkan efisiensi sel dan efisiensi produksi, dan merupakan dukungan teknis utama untuk mempromosikan proses industrialisasi sel fotovoltaik film tipis.
FUNSONIC Ultrasonic Thin Film Photovoltaic Cell Atomization Nano Particle Coating FS620 terutama digunakan untuk pengujian kualitatif di laboratorium ilmiah, produksi batch kecil dan menengah, dan area berukuran sedang. Seluruh perangkat memiliki struktur yang sederhana dan elegan, menggunakan modul gerakan presisi tiga sumbu XYZ dan dilengkapi dengan sistem kontrol khusus penyemprotan ultrasonik yang dikembangkan secara independen oleh FUNSONIC, mencapai sistem pengeditan lintasan komprehensif dengan fungsi yang cocok dan mencapai penyemprotan yang seragam dan presisi
Parameter:
![]()
Fitur :
1. Pelapisan dengan keseragaman tinggi
Kontrol secara akurat jumlah penyemprotan dan jangkauan pelapisan
Pastikan pelapisan lapisan tipis kunci yang seragam dan padat seperti lapisan penyerapan cahaya dan lapisan elektroda
2. Partikel teratomisasi skala nano
Lapisan diatomisasi menjadi partikel yang sangat halus pada skala nano
Tingkatkan kepadatan dan sifat listrik lapisan, dan kurangi kehilangan material
3. Pelapisan suhu rendah
Mengadopsi teknologi penyemprotan ultrasonik pada suhu rendah
Hindari kerusakan film dan degradasi kinerja baterai yang disebabkan oleh suhu tinggi
4. Efisiensi produksi tinggi
5. Perlindungan lingkungan dan penghematan energi
6. Cocok untuk berbagai teknologi fotovoltaik
Dapat digunakan untuk melapisi sel fotovoltaik film tipis seperti a-Si, CIGS, CdTe, dll
Memenuhi kebutuhan produksi dari berbagai rute teknologi fotovoltaik
![]()
![]()
![]()
Pelapisan Partikel Nano Atomisasi Sel Fotovoltaik Film Tipis Ultrasonik
![]()
![]()