fokus pada aplikasi ultrasonik, dengan itikad baik untuk memenangkan pelanggan
| Tempat asal: | Cina |
|---|---|
| Nama merek: | FUNSONIC |
| Sertifikasi: | CE |
| Nomor model: | FS620 |
| Kuantitas min Order: | 1 Unit |
| Harga: | Negotation |
| Kemasan rincian: | dikemas dengan kasus kayu |
| Syarat-syarat pembayaran: | T/T, Western Union |
| Menyediakan kemampuan: | 1000 Unit per Bulan |
| Nama produksi: | Mesin Penyemprotan Presisi Ultrasonik | Frekuensi: | 20-200KHZ |
|---|---|---|---|
| kekuatan penuh: | 1-15W | Volume Penyemprotan Berkelanjutan Maks: | 20-1200ml/jam/pcs,Skalable |
| Lebar Penyemprotan Efektif: | 2-260mm/pcs,Skalable | Keseragaman Semprot: | ≥95% |
| Viskositas larutan: | ≤30cps | Tegangan Masuk: | 220V±10%/50-60Hz |
| Menyoroti: | Lapisan Wafer Semikonduktor Ultrasonik,Lapisan wafer semikonduktor,Lapisan Wafer Ultrasonik |
||
Lapisan Wafer Semikonduktor Ultrasonik
Deskripsi:
Lapisan wafer adalah proses unik yang memfasilitasi aplikasi otomatis perekat chip pada tingkat wafer, diikuti dengan pembentukan film perekat chip di tahap berikutnya.Teknologi lapisan wafer semikonduktor ultrasonik FUNSONIC cocok untuk lapisan wafer, yang dapat mencapai kecepatan proses, kontrol ketebalan, dan keseragaman material.koneksi chip dicapai melalui pemanasan dan tekanan untuk menghasilkan garis perekat yang konsisten dan kecil, kontrol sudut.
Teknologi pelapis wafer semikonduktor ultrasonik perlu mempertimbangkan parameter penyemprotan selama penggunaan, seperti frekuensi ultrasonik, kecepatan penyemprotan, dan ketebalan pelapis,yang perlu dioptimalkan sesuai dengan bahan dan persyaratan tertentuPada saat yang sama, sifat material juga dapat memiliki dampak tertentu pada efek penyemprotan, seperti viskositas, ketegangan permukaan, dan volatilitas lapisan,yang perlu dipertimbangkan saat memilih bahan.
Parameter:
| Jenis Produk | Mesin Lapisan Presisi Ultrasonik Cerdas Desktop Type FS620 |
| Frekuensi Operasi Nozzle Semprot | 20-200Khz |
| Kekuatan Nozzle | 1-15W |
| Volume Semprot Berkelanjutan Max | 00,5-10 ml/menit |
| Lebar Penyemprotan Efektif | 2-20mm |
| Keseragaman Semprot | ≥ 95% |
| Tingkat Konversi Solusi | ≥ 95% |
| Ketebalan film kering | 20nm-100μm |
| Viskositas larutan | ≤30cps |
| Kisaran suhu | 1-60°C |
| Partikel atomisasi (nilai rata-rata) | 15-40μm (air suling), ditentukan oleh frekuensi nozel |
| Tekanan pengalihan maksimum | ≤ 0,05MPA |
| Tegangan Masuk | 220V±10%/50-60Hz |
| Mode Latihan | XYZ tiga sumbu, dapat diprogram secara independen |
| Mode Kontrol | Sistem kontrol penyemprotan FUNSONIC, kontrol PLC, layar sentuh berwarna penuh 13,3 inci |
| Konten kontrol | Penyemprotan ultrasonik, pasokan cairan, pemanasan, dispersi ultrasonik dan sistem lainnya |
| Metode Penyediaan Cairan | Pompa injeksi presisi |
| Sistem Dispersi Ultrasonik (Fleksibel) | 20 ml atau 50 ml, 40K, pemindai sampel kelas biologis |
| Kekuatan nominal sistem dispersi ultrasonik | 100W |
Aplikasi:
1. Lapisan lapisan photosensitive:
Dalam fotolitografi, teknologi ultrasonik digunakan untuk melapisi bahan fotosensitif secara seragam, memastikan transfer pola resolusi tinggi.
2Lapisan pelindung:
Gunakan lapisan pelindung anti korosi dan tahan goresan untuk meningkatkan daya tahan wafer.
3. Lapisan fungsional:
Dalam aplikasi tertentu, bahan fungsional dengan sifat listrik atau optik tertentu dapat dilapisi.
Lapisan Wafer Semikonduktor Ultrasonik